Компанія ASML інтенсивно працює над впровадженням свого нового літографічного сканера з високою числовою апертурою.
Цей пристрій, вагою 150 тонн і потребуючий 250 контейнерів для транспортування, вже збирається на заводах компанії.
Щоб привести цей гігантський сканер у робочий стан, потрібна робота 250 інженерів протягом шести місяців. Однак великі гравці на ринку напівпровідників, такі як Samsung, TSMC, Micron і SK hynix, вже виявили інтерес до цього передового обладнання.
За словами представників ASML, нові літографічні системи покоління High-NA дозволять виробникам чипів значно зменшити геометричні розміри напівпровідникових елементів на 40%, при цьому збільшуючи густину розміщення транзисторів до трьох разів.
Незважаючи на потужність та перспективи цього обладнання, аналітики вважають, що доцільне використання таких літографічних сканерів може настане не раніше 2030 року.
Керівництво ASML натомість стверджує, що економічна вигода від переходу на нове обладнання буде очевидною набагато раніше, й воно розпочне ефективно працювати вже у 2026 чи 2027 році.
Зараз компанія має у своєму розпорядженні від 10 до 20 замовлень на постачання таких сканерів від клієнтів, а до 2028 року планує налагодити випуск до 20 таких систем щорічно.
Ці обладнання обійдуться виробникам у підрахункові $380 млн за штуку.
